에프엔에스테크(주)

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제품소개

제품 전체

DEVELOPER
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빛을 받은 부분(또는 받지 않은 부분)을 선택적으로 제거함으로써 미세한 회로 패턴을 형상화하는 장비

목록으로

Developer Unit

  • 요동 Type
  • Spray Type
  • Dip Type
  • Puddle Type

Cleaning Unit

  • 고압세정(Jet-Nozzle)
  • M-Sonic(line Shower)
  • 순수Rinse

Dry Unit

  • Air-knife(Hot or Room Temp Air)

Transfer Unit

  • Roller Conveyor

ETC

  • Customized Dimension & Specification
  • In-line Type대응
  • Color Touch Screen 조작 Panel
  • Loader / Unloader
  • Ionizer (대전방지용)
  • Temp Controlled Chemical Mixing Tank(20~35±1℃)

적용분야

  • TFT LCD
  • C/F LCD
  • PDP
  • AMOLED
  • FILM

특징


1. 초균일 현상 제어

- 고성능 분사 시스템: 기판 전체 면적에 현상액을 일정한 압력과 각도로 분사하여 위치별 패턴 편차를 제어

- 미세 기포 제거: 현상액 분사 시 발생할 수 있는 미세 기포를 억제하여 패턴 결함을 원천 차단하고 균일한 현상 결과물을 보장


2. 정밀 프로파일 구현 

- 반응 시간 정밀 제어: 감광액이 현상액과 반응하는 시간을 초 단위로 정밀하게 제어하여, 패턴의 단면(Profile)을 수직적이고 날카롭게 형성

- 세밀한 현상 정지(Rinse): 현상 직후 잔류액을 빠르게 씻어내는 린스 공정을 통해 과현상(Over-development)을 방지하고 회로의 선폭(CD, Critical Dimension)을 안정적으로 유지


3. 지능형 액 관리

- 액 농도 및 온도 자동 제어: 현상 효율에 직접적인 영향을 미치는 현상액의 온도와 농도를 실시간으로 관리하여 최상의 공정 조건을 유지


4. 대면적 및 Flexible 대응

- 8세대 이상의 대면적 기판은 물론, 휘어지기 쉬운 Flexible/Foldable용 박형 기판까지 손상 없이 안전하게 이송하며 정밀하게 현상하는 기술 보유